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黑洞光刻機公司。

蒲偉才需要衛明幫忙加工的零件，主要跟光學鏡頭相關。

尤其是光學鏡頭表面的那層反光膜材料，要求純度達到8個九以上。

但國內相關的材料公司，只能做到4個九的純度，還差四個量級。

為了提高反光效率，衛明只能利用小黑吸收雜質，提純材料，使其純度無限接近100%。

這本是慢工出細活，一個一個的消除雜質分子，一天也提純不了多少。

後來科學家想到了一個巧妙的辦法，那就是把反光膜材料，溶於某種特殊有機溶液中，而大部分雜質不能溶解，於是就把雜質析了出來，再加熱特殊有機溶液，析出純度更高的反光膜材料。

如此反覆操作幾次，反光膜材料的純度，能提高11個九以上，要比國外材料還高出三個量級——這也是暴龍EUV的能量利用效率，為什麼能高出三倍還多的原因。

不過特殊有機溶液經過多次的使用之後，其本身純度會有所下降，進而影響反光膜材料的純度，必須對特殊有機溶液進行提純操作。

這就需要製作一種特殊的分子篩，孔徑極小，只允許有機溶液分子透過，其他分子一個都通過不了，純度甚至能達到理論層面的100%。

所以要想解決掉反光膜問題，衛明得製作一批有機溶液分子篩，利用小黑打下一個個的小孔。

由於分子篩小孔的直徑剛好在1奈米左右，以前衛明需要精準操控，一天頂多打下100億孔。

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