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下午的會議，鄭振川就沒有再參加了。

但遠芯對半導體行業的討論仍然在繼續。

“過去十幾年，我們一直在和intel比工藝，截止去年，我們都已經走到了成熟的45nm節點上。”張汝金戴上了老花鏡，瞥了一眼手中的檔案，臉上是不甚唏噓的感慨：“不得不說,intel還是很厲害的，我們每次有領先，他們總是能夠及時的追上來甚至還能反超。”

“摩爾定律就是這麼實現的。”蘇遠山笑著補充了一句。

“是啊，但今年我們可以提前一大步了。”張汝金笑呵呵地望向眾人，但主要的視線還是停在蘇遠山的臉上。

畢竟，這與會的多人裡，還是蘇遠山對半導體工藝理解得最深刻。

“最遲年中，我們就可以推出基於22nm的finfet工藝,把晶圓的電晶體密度再上一個臺階。而且我們目前的DE技術已經成熟，目前正在向SADP技術轉移，從技術的角度，是可以支撐我們的工藝在DUV的條件下把製程繼續往下探，或者說，等效製程往下探。”

//DE（doubleexposure，雙重曝光），SADP（self-aligneddoublepatterning自對準雙重成像）

“如果intel跟不上，那這將會是一次巨大的領先！”張汝金紅光滿臉，終於忍不住有些激動起來：“製程進入到22nm之後，finfet將會是唯一的選擇，最起碼目前是。”

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