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在IBM工作的林本堅也不能放過。

這位對於浸沒式光刻技術有鬼才一般的想法，必須要招攬。

此時，這位天才就有了浸沒式光刻技術的想法。

當晶片製程卡在65nm之際，林本堅看到浸沒式光刻技術的機會。

為解決技術難題、消除廠商疑慮，林本堅還花費半年時間帶領團隊發表3篇論文。

當時，業界質疑水作為一種清潔劑，會把鏡頭上的髒東西洗出來，還有人擔憂水中的氣泡、光線明暗等因素會影響折射效果。

而根據林本堅團隊的研究，他們提出一種曝光機，可以保持水的潔淨度和溫度，使水不起氣泡。

雖然這種曝光機並未在實際中被採用，但林本堅的研究證明技術上的難題是可以被解決的。

他還親自奔赴美國、日本、德國、荷蘭等地，向光刻機廠商介紹浸沒式光刻的想法，但是，有能力進行研發的大廠普遍不買賬。

箇中原因也不難理解，自20世紀60年代起，玩家入局光刻機市場，在乾式光刻技術上投入大量財力、人力、物力，好不容易踏出一條可行的技術路線。

如果按照林本堅“加水”的想法，各位前輩就得“一夜回到解放前”，從技術到裝置重新探索，很少有人捨得這麼高的沉沒成本。

但是，“很少有人”不代表“沒有人”。

但偏偏阿斯麥就是這麼一個敢吃螃蟹的人，比如EUVLLC聯盟裡，美國成員構成主體。

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