類似的情形和對話?分?別在?歐美、日韓等國的半導體龍頭企業內部發?生，他也正在?焦急等待海外華國一個規模不大卻令人不敢小覷的科技公司的最新訊息。

不過他和國內企業家的願望不，他在?內心裡不斷髮?惡狠狠的詛咒，尤其歐美國家詛咒最美，但願藍河科技的實驗結果慘遭滑鐵盧！

最好一直滑鐵盧，永遠不會成功！

很惜他註定會失望。

藍河科技內，隨著盛明安手勢的指揮，矗立眾人跟前的那臺光刻機樣機在?漫長的一小時內完成了的第一次驗收。

樣機看?不見的內部，無數比頭髮?絲還?細的鐳射穿過幾十個精密鏡頭後?，準確擊中錫液滴靶，處分?散的等離子體被收集，將掩膜版上的圖形資訊透過縮圖透鏡完完整整復刻到面的晶圓，曝光晶圓。

一個小時後?，各小組彙報結果。

“完成光刻試驗任務，沒?有異常。”

“一小時內成功曝光160片晶圓，比目前已知的asml euv nex3400b機型每小時曝光125片晶圓吞吐量多?達35片！套刻誤差不超過2nm！”

“資料已全部記錄，根據資料計算顯示，以在?原樣機的基礎上將效率提高至?18%，套刻誤差提高到2nm以。”

“一片晶圓得晶片數量等於晶圓面積/芯片面積晶圓直徑/晶片對角線長，照該公式計算我目前使?用的12英寸晶圓一片得到的晶片數量，不過最後?用的晶片數目得等到封測完畢才知道最終的晶圓良率。”

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