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以學部委員黃坤、王首武和鄧國輝為首的十二名光刻機半導體專家組成的專家鑑定組，透過現場測試，專家組組長黃坤親自書寫鑑定報告。

京城半導體裝置股份有限公司研發成功的光刻機雙工作臺系統，在現場，對磁懸浮式雙工作臺系統進行了十次測試，能提升晶片製程工藝精度15%，提高晶片生產效率35%，還有不斷提升的潛力，這項發明在光刻機專利技術中屬於世界首創，屬於重大核心技術發明，強烈推薦申請公司發明專利。

十二名專家組成員在鑑定報告上簽名同意。

魏建國下午四點拿到鑑定報告，四點半來到國家專利局，遞交了公司發明專利的申請，公司發明專利申請被受理，將向社會公示六個月。

磁懸浮式光刻機雙平臺系統是世界光刻機核心技術中的首創技術，京城半導體裝置公司透過國家專利局將向美國、日本、荷蘭、韓國、德國和法國的國家專利局申請公司發明專利。

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“恭喜孫健！”

一直忙得焦頭亂額的朱領導接到專利局秦局長的彙報後，心情愉悅，他一直關注京城半導體裝置公司的建設和整合情況，打電話向孫健祝賀，心裡感嘆，不愧是國內首富，一個突發奇想，三個月不到的時間，公司就研發成功一項光刻機行業首創的重大核心技術專利，其他光刻機公司今後想提高製程工藝精度和產量，除了自己投入巨資研發，都繞不過這項重大核心技術專利。

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