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第九五六章 研發極紫外光

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前世雖然Nikon憑藉技術實力和資金實力先後研製成功F2準分子鐳射器和浸沒式光刻技術,生產成功浸沒式光刻機,但半導體產業更新換代迅速,導致Nikon光刻機的可靠效能始終落後於ASML,從此,全球高階光刻機龍頭Nikon逐漸敗給了全球光刻機新霸主ASML。

前世由於ASML獨有的EUV光源無人能夠研製,國內光刻機光源生產公司的技術沒有競爭力,以美國為首的西方國家並沒有限制ArF準分子鐳射器和ArFi準分子鐳射器的出口。

BSEC可以直接進口市場價45五萬美元一臺的GCA牌ArF準分子鐳射器,購買蔡司公司生產的光學系統,進口6英寸晶圓,加上獨創的光刻機磁懸浮式雙工作臺系統,就能生產1um製程工藝的光刻機,雖然6英寸晶圓、1um製程工藝的半導體生產線是西方國家淘汰的生產線,但在國內還大有市場。

BSEC就可以活下來!

理想很美好,但現實很骨感,BSEC就是能製造1um製程工藝的光刻機,不代表能生產6英寸晶圓、1um製程工藝的半導體生產線!

國內缺乏半導體生產線裝置的全產業鏈,如今都壓在了BSEC的肩上。

BSEC生產的1um製程工藝的光刻機也沒有晶圓公司會用!

誰投資誰倒黴,這就是“造不如買、買不如租”的主要原因!

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