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一旦BSEC光源研究所在重生者的指引下，在ArF準分子鐳射器專利技術的基礎上，研製成功ArFi準分子鐳射器和浸沒式光刻系統，雖然浸沒式光刻系統的專利技術屬於BSEC，但根據雙方簽訂的專利技術轉讓協定，ArFi準分子鐳射器的專利技術就屬於GCA！

GCA生產ArFi準分子鐳射器，購買BSEC的浸沒式光刻系統專利技術，也能生產浸沒式光刻機。

早一日研製成功8英寸晶圓、350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，製程工藝最高就能提升到250nm，憑藉提高35%的生產效率，Gikon光刻機的高階市場份額，奪回全球高階光刻機市場。

峰迴路轉！

艾德里安、湯普森的心情比魏建國、鄧國輝還急迫。

談判和簽訂專利技術轉讓協定期間，孫健不在京城，艾德里安和魏建國都拿著他簽署的代理書談判，雙方公司的律師在場監督，並在專利技術轉讓協定上簽字證明。

專利技術轉讓協定符合中美法律。

巴T協定禁止8英寸晶圓和500nm製程工藝的半導體生產線出口中G，但沒有禁止ArF準分子鐳射器出口，800nm製程工藝專利技術也不在禁令之中。

美國人知道就是中G光刻機公司耗費巨資買到了ArF準分子鐳射器和800nm製程工藝專利技術，也生產不出6英寸晶圓和800nm製程工藝的半導體生產線。

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