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“同志們辛苦了，我代表公司獎勵專案組20萬元！”

二十七日下午，接到魏建國的電話，光刻機電源廠製造成功第一臺arf準分子鐳射器樣機，孫健第二天上午乘飛機來到京城，接見arf準分子鐳射器樣機專案研製和生產專案部成員代表。

十月中旬，夏季常團隊研製成功5英寸晶圓、1um製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統。

gca光刻機半導體研究院得到磁懸浮式雙工作臺系統的專利技術，為了早日攻克8英寸晶圓、250nm磁懸浮式雙工作臺系統，湯普森院長集中全院相關科研人員聯手攻關，二個月的時間就先後研製成功5英寸晶圓、1um製程工藝和6英寸晶圓、800nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，如今正在研製8英寸晶圓、500nm製程工藝的的磁懸浮式雙工作臺系統。

按照如今的程序，明年初就能得到好訊息。

按照雙方簽訂的專利技術轉讓協定，gca要將5英寸晶圓、1um製程工藝和6英寸晶圓、800nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統技術都轉交給bsec。

湯普森交給總裁餘建國，餘建國交給鄧國輝。

雖然可以節約bsec雙工作臺研究所不少時間和投入，但夏季常團隊將來還要研製浸沒式光刻系統相對應的磁懸浮式雙工作臺，孫健建議夏季常帶領研究員們自己研製一遍。

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