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四月二十六日。

矽谷。

gca總部。

“公司拿出200萬美元獎勵gca3500b專案部。”

週五下午，孫健接到餘建國從美國打過來的報喜電話，第二天就乘飛機來到矽谷。

啪啪……

艾德里安、布羅迪和湯普森等公司高層露出了久違的笑容，揚眉吐氣。

gca光刻機半導體研究院將研製成功的適合8英寸晶圓和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，安裝在一臺gca3500a光刻機上，製程工藝突破350nm，透過多次測試，最高達到320nm，命名為gca3500b，製程工藝超過nikon3500b光刻機，還提升47%的生產效率，創了新的世界紀錄！

去年底研製成功gca3500a是一個巨大的突破，與nikon3500b光刻機的製程工藝看起來相同，但由於安裝有適合8英寸晶圓和500nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，gca3500a的製程工藝和生產效率明顯超過nikon3500光刻機，經過sematech專家組技術認證後，ii、amd和hp半導體裝置公司預定了五臺gca3500a光刻機。

緊接著，gca股東大會透過並實施向10名特定投資者以每股1.5美元的價格，定向增發10億新股的方案，其中peng購買了3億股，atic購買了2億股，gca融資145500萬美元，現金流大增，召回和招聘了400多名研發人員和技術工人，啟動了3條光刻機半導體裝置生產線，如今能同時生產五臺gca3500a光刻機。

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