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zeisssmtag股份制改造後，資金有了保障，研發實力大增，產品更新換代加快，還增加了三條生產線，源源不斷的訂單保證了現金流和利潤，gca的短板、光刻機光學系統的供應也有了保障。

一步先步步先！

zeisssmtag的光刻機光學系統技術要超過nikon還需要時間，蔡司海登海姆公司和蔡司耶拿公司正在商議合併事宜，一旦正式合併，一家世界級光學巨無霸將誕生。

重生者預感nikon會率先研製成功8英寸晶圓和250nm製程工藝的光刻機，造成gca的股價下跌，gca隨後研製成功8英寸晶圓和250nm製程工藝的光刻機，憑藉不斷升級換代的磁懸浮式雙工作臺系統和蔡司公司供應的光刻機光學系統，引領行業發展，

雙方你追我趕，一旦遭遇65nm製程工藝的瓶頸，nikon和gca的科學家都無能為力。

凋刻東西，花樣要精細，刀尖就得鋒利，如何把光刻機193nm的光波再“磨”細？

前世九十年代，採用的是193nm波長的乾式光刻技術，隨著光刻機的製程工藝不斷進步，nikon半導體裝置公司率先攻克8英寸晶圓和350nm、250nm、180、130、100、90nm、65nm的製程工藝，引領行業發展的步伐，壟斷了高階光刻機的市場份額，但在65nm製程工藝上遇到了瓶頸，nikon科學家試驗了多種技術，攻關十多年，都無法突破這道擋在半導體產業的世界極難題。

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