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GCA當時投入研發EUV技術專案的3000萬美元經費，可以收購ASML40%的股權，不是一筆小數目！

GCA當時賬上的現金流只剩下300多萬美元，公司要花錢的地方多的是。

孫健前世在網際網路上看過不少有關ASMLEUV光刻機的文章，作者紛紛感嘆研發和生產EUV光刻機之難難於上青天，被稱為外星人的科技水準，是迄今為止人類科技領域所能達到的最尖端技術，沒有之一。

為了打破封鎖，投入巨資，舉國之力也沒有看見成果。

前世90年代末，乾式193n】

英特爾當時打算邀請光刻機行業第一、第二位的Nikon和ASML加入EUVLLC，但美國政府擔心最前沿的光刻機技術落入外國公司手中，反對Nikon和ASML加入。

ASML為了表現誠意，同意在美國建立一所工廠和一個研發中心，以此滿足所有美國本土的產能需求，另外，還保證55%的零部件均從美國供應商處採購，並接受定期審查，做出多項讓步後，最後成功加入EUVLLC，能夠享受其基礎研究成果，Nikon卻沒有機會加入，失去了同ASML競爭的機會。

幾年之後，終於論證了EUV的可行性，於是EUVLLC的使命完成，公司解散，各個成員踏上獨自研發之路。

ASML加入EUVLLC後，享受到的研究成果大大加快了其EUV的研發進度，2005年摩爾定律陷入停滯，極紫外光刻技術被認為是製程突破10n程工藝的關鍵，但由於EUV光刻機幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限，光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高，別說是對日本與荷蘭，就算是科技全球第一的美國，舉國之力獨自突破這項世界最尖端的技術，也是痴人說夢。

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