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前世，EUV光刻機的聯合研發成功幾乎逼近當時人類物理學、材料學以及精密製造的極限，除了光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高，別說ASL或Nikon，就算是科技實力世界第一的美國，以一國之力，完全自主製造一臺EUV光刻機，比登天還難。

EUV光刻機被稱為人類工業皇冠上的明珠！

湯普森院士團隊雖然沒有研製成功EUV，但研究成果對GcA的光源和光學精密裝置的不斷改進貢獻極大。

由於孫健重生，瀕臨破產倒閉的GcA浴火重生，重回全球光刻機的龍頭企業之一，成為EUVLLc聯盟的重要成員，湯普森院士團隊專門研究EUV光源7年，取得了不少重要技術成果，EUVLLc聯盟研製成功EUV光刻機，肯定不需要15年。

GcA將成為全球唯一生產EUV光刻機的廠家，AtIc將成為最大的受益者，雖然孫健也樂見其成，但以美國人的性格，極有可能讓AtIc交出GcA的控股權，嚴禁出口EUV到中國，這不是重生者願意看到的結果。

前世被美國技術封鎖，舉國之力，孫健穿越前沒有看到國產EUV光刻機的影子。

經過一年多的努力，bSEc已經研究成功8英寸晶圓、250n製程工藝的光刻機，正在抓緊時間研製180n製程工藝的光刻機。

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