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時刻關注光刻機技術進展的孫健，如今還沒有聽說臺積電的林博士在國際半導體研討會上提出研發“沉浸式光刻”的設想。

“沉浸式光刻”就是在晶圓光刻膠上方加一層水，水的介質折射率是144，193nm144≈134nm，在不改變光刻機波長情況下，變相擴大了NA，使得193nm波長的能等效出134nm的波長。

前世，林博士拿著這項“沉浸式光刻”方案，跑遍美國、德國、日本等國，遊說各家半導體巨頭，但都吃了閉門羹。

警告臺積電高層，讓林博士“不要攪局”。

實力最差的ASML決定賭一把，相比之前在傳統乾式微影上的投入，押注浸潤式技術更有可能以小博大，於是和林博士一拍即合，僅用一年時間，就拼全力造出了第一臺樣機，並先後奪下IBM和臺積電等大客戶的訂單。

和Canon主推的157nm波長乾式光刻機被市場逐漸拋棄，兩家公司由盛轉衰。

“孫先生，公司和NVIDIA的官司敗了，公司需要賠償4500萬美元，但公司一下子拿不出這麼多現金，銀行也不願意放款，除了容許NVIDIA收購，公司已經沒有其他方法，但公司上下不願意被NVIDIA收購，我代表公司董事會請求AITC投資5000萬美元，公司增發新股，邀請AITC控股3dfx。”

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