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「鄧院長，我代表京城半導體公司，獎勵研發部500萬元。」

啪啪……

8月15日，接到總經理魏建國的電話，京城光刻機研究院研發成功了90nm製程工藝光刻機，孫健非常高興，第二天上午就乘飛機從江城來到京城，在京城光刻機研究院會議室接見了包括院長鄧國輝院士、副院長歐陽明院士、副院長陳偉長院士、光刻機自動化研究所所長夏季常院士在內的200多名90nm製程工藝光刻機研發部的研發人員。

京城光刻機研究院在不到一年的時間內研發成功90nm光刻機，厚積薄發，孫健不會感到驚訝，經過近9年的快速發展，加上舍得投資，京城光刻機研究院下屬10家研究所（部）人才濟濟，國內近八成的頂尖光刻機人才都在這裡。

京城半導體公司擁有4名光刻機專業頂尖的院士，教授、研究員、教授級工程師近百人，這在國內科研院所和公司中都是絕無僅有的事情。

如今沒有專業博士文憑，很難進入京城光刻機研究院。

1998年9月，GCA和Nikon先後研發成功90nm製程工藝的光刻機；2000年8月，Intel、IBM、IT、AMD、HP各自投資25億美元（包括基建費用）建設的一條12英寸晶圓、90nm製程工藝的半導體生產線先後量產。

2000年，ASML、Canon、SVG先後研製成功90nm製程工藝的光刻機。

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