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如果說航空發動機，代表了人類科技領域發展的頂級水平，那麼光刻機就是半導體工業界最為耀眼的明珠。

作為光刻工藝的核心裝置，也是所有半導體制造裝置中技術含量最高的裝置，光刻機涉及到精密光學、精密運動、高精度環境控制等多項先進技術。

就在去年。

鬱金香國的asml成功推出了第一臺euv光刻機nxe，也是第一臺第五代光刻機。

此後十年，乃至可預見的更長的時間段中，asml都將百分百壟斷全球中高階光刻機市場，成為全球各國晶片製造產業無法繞開的一個高門檻。

說起來。

華夏光刻機裝置的研製，起步時間其實並不晚。

早在1970年，就先後有清北大學精密儀器系、華夏科學院光電技術研究所、華夏電科等投入研製。

到了2006年，華夏更是重磅釋出《華夏中長期科學技術發展規劃綱要》，其中的01、02專項都跟半導體產業相關。

不可謂不重視。

02專項設定的目標，就是實現28nm晶片產業鏈的國產化，也是半導體行業的主流晶片，廣泛應用於航空航天、智慧汽車、物聯網等領域。

到了2021年。

刻蝕、離子注入、薄膜沉積等幾十種成套工藝裝置，都已經透過大生產線的驗證，實現了28nm製造裝備和工藝的國產化。

光刻膠、特種氣體、濺射靶材等，也都實現了28nm工藝的突破。

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