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李興沒有說大話，第二天他就拿著一份方案找到了鄭南。

「鄭廠長，我認為現在無法推進更高製程的主要原因，除了一個是光刻技巧外，還有更重要一點就是無法制作相應的光掩模。」

接觸式光刻的原理就是用光這把刻刀透過光掩模這塊遮光板，把想要的晶片圖案1:1等比例投射在下面的矽片上。

也就是說下面晶片能做出多精細的製程，首先得取決於你能做出多少的光掩模，你不可能拿一張一毫米的光掩模做出10微米的晶片來，相反你要是能拿出一微米的光掩模，也未必不能做出一微米制程的晶片。

「光刻技巧這方面我不懂，所以給不出任何建議，但對於更精細光掩模的製作，我卻有一個好想法。」

「我看過無線電廠的光掩模製作，都是直接拿刻刀在光掩模玻璃上刻畫，這種技術註定無法往更精細推進，而我的想法是如果我們能用一臺高畫質相機，先把晶片圖紙拍下來，利用相機的縮放技術曝光在底片上，再想辦法把底片做成光掩模，就能得到一張高精度製程光掩模了。」

鄭南很有興趣：「李主任你可以呀，這想法可太好了！」

的確，相機的工作原理就是將一幅大畫面縮放儲存在一張一寸大小的底片上，那麼現在如果把晶片圖紙利用這個原理縮放到底片上，確實可以得到一張微米級別的光掩模。

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