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無線電廠晶片製造車間裡,南園電子廠的三十名工程師仍然在跟著劉工努力學習著光刻機的使用技巧。
或許當初看光刻機使用步驟會覺得非常簡單,無非就是塗膠、曝光、沖洗,最後刻蝕完事,這能有什麼難的?可當後來劉工分步驟的一步步給他們講解,才讓他們明白這裡面的門道有多深。
就拿第一步的塗膠來說,字面意思就是給矽片上塗一層光刻膠,因為光刻實際就是刻的這些光刻膠,而不是矽片。
這些光刻膠被特定波長的光照就會被溶解清除,再放進特定的化學溶劑裡浸泡,最終得出自己想要的矽片,一次光刻就此完成。
聽起來好像很簡單,可塗膠不是攤煎餅果子,也不會允許你拿個小鏟子給光刻膠抹勻,事實上那樣也根本抹不勻。
一般都是透過高速旋轉利用離心力的作用完成,雖然期間絕大部分的光刻膠會被甩出去浪費掉,但卻能保證光刻膠的絕對均勻。
“但就算這樣你仍然不能保證把光刻膠塗好,因為膠體在離心力的作用下很容易在矽片周圍堆積甚至是流到背面,我們為了避免這種情況,在塗光刻膠的同時要進行不斷的吹風,最後還要進行去邊處理。”
聽著劉工的講課,大多數工程師都很蒙圈,他們很久沒有這麼高強度的學習,注意力有點跟不上了。
除此之外他們也是真沒想到光刻能這麼複雜,這還只是第一步的塗膠,還沒開始光刻呢,就這麼複雜了?
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