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第三百五十一章 投影式光刻技術

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晚上十二點,整個江夏電子廠的大部分車間都已經黑漆漆一片,只有值夜班的保衛科人員,在打著手電筒來回巡邏。

然而只在晶片車間所在的西北角,這裡仍然燈火通明,那為了避免干擾光刻而獨有的黃光,代表裡面仍然處於緊張的工作狀態,那黃澄澄如同霧濛濛一般的光暈,似乎也預示著光刻作為頂尖精密製造的神秘。

車間辦公室裡,總工程師張本松和一眾工程師都圍坐在桌前開會。

“的確這種投影式光刻機對比之前的接觸式光刻機提高了相當大精度,而且採用凹透鏡和凸透鏡相結合的高斯型鏡頭,也能消除大部分場曲和像差。”

“除此之外還有光掩模的製作,以及烘焙刻蝕這些,也基本和接觸式光刻步驟一樣,不需要我們額外掌握,甚至於由於光掩模無需再直接接觸光刻膠,烘焙的精度也變得不那麼重要,這是我們的優勢。”

“但同時我們也必須注意到,由於接觸改投影,我們也面????????????????臨光刻方面的新問題,首當其衝的就是光衍射問題……”

還是那個最煩人的原理,光不是沿一條直線傳播,而是具有波粒二象性,尤其在透過窄縫以後,這種衍射現象更加嚴重。

“雖然經過今天一天的測試,以及和江夏電子廠的同志,還有遠在寧海的同志交流以後,對我們有很大的啟發,我們也收穫了相當不錯的成果,但這還遠遠不夠,我希望大家明天能再接再厲,早日攻克投影式光刻技術!”

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