<!--go-->

“怎麼可能！”

各大晶圓廠難以置信。

阿斯麥也同樣感到了匪夷所思。

安布雷拉設計出14nm的晶片是沒有任何人懷疑。

現在大家用的EDA可都是他們最佳化的。

可特麼前面量產20nm已經夠誇張了，現在14nm都出來了？

三年前就有了20nm級別的工藝！到現在才正式突破14nm，這其中可並不單單造出來就行了，還有著良品率等一系列問題來保證不會虧本，來保證有盈利！

這其中要攻克的技術，要克服的難點只有他們這些一路走來的晶圓廠才心中清楚！

而且看樣子是已經開始量產並備貨了！

怎麼可能這麼快？

前面20nm的產量就很誇張了？為何能這樣？

隨著安布雷拉的DUV光刻機逐漸到貨後，各方面也都開始發現了原因。

看到還是乾式光刻機其實他們都有點懵。

本以為安布雷拉是也突破了浸潤光刻法才追上的，結果人家浸潤的技術都還沒用出來！

純粹靠著強大的鏡頭硬生生的完成了彎道追趕。

光源波長和各種引數都是擺在這裡的，他們能夠輕易算出這臺光刻機極限精度達不到阿斯麥的水平。

多次曝光也很難達到7nm極限。

可是……

“感覺這臺光刻機的良品率好高啊，我們還只是隨便組了一下試試，除錯都沒用多久，良品率方面竟然就不比正常生產線要差了。”

積電的工程師滿臉驚歎。

Loading...

未載入完，嘗試【重新整理】or【退出閱讀模式】or【關閉廣告遮蔽】。

嘗試更換【Firefox瀏覽器】or【Chrome谷歌瀏覽器】開啟多多收藏！

移動流量偶爾打不開，可以切換電信、聯通、Wifi。

收藏網址：www.ebook8.cc

(＞人＜；)