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《半導體行業的革新產品出現》

《阿斯麥公司率先研發出EUV光刻機》

《晶片工藝製程或將提升十倍》

《晶片工藝已將達到物理極限》

在依然還有著‘魔力’‘外星生物’這些熱點的時候，阿斯麥的EUV光刻機在背後一群資本的運作下，立刻就登上了全球熱點。

本來正常來說，一件商品的更新迭代都是有跡可循的，或者說會有著技術儲備。

比如明明EUV光刻機是重新的新開賽道，和以前的DUV光刻機關係不大，但在平行世界這也硬是等到了晶片達到了DUV光刻機極限的7nm瓶頸後才拿出來的。

但在這裡，因為安布雷拉DUV光刻機帶來的壓力，還有人工智慧以及量子計算+超算的模式前景擺在這裡。

為了重新爭奪這尖端利潤，為了更美好的前景。

在如今最頂級的晶片工藝製程還是14nm的時候，阿斯麥公司就端出了他們的EUV光刻機。

而且因為安布雷拉對鏡片領域的影響加持，還有其他各方面技術帶來的競爭感。

阿斯麥這次提前拿出的EUV光刻機比原本計劃的各項技術引數，還要更加優秀！

某積電、四星、英特爾等晶圓廠都已經到貨，並開始組裝除錯！

顯然阿斯麥的EUV光刻機並不是說剛剛才造出來的，是已經開始供貨讓他們加班加點的完成組裝後才開始官宣的。

為的就是一步到位，為的就是減少給競爭對手的反應時間！

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