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下午四點半。

檮杌行政主管、王院士、張學君、眾其它科研單位代表目送方年乘車離開。

看著車輛尾燈閃爍最終消失在街頭。

眾人不約而同的在心裡鬆了口氣。

接著相互之間有眼神交匯，雖面色各有不同，但多為躍躍欲試。

短暫的會議上，眾人代表各個單位初步確定加入前沿檮杌倡導的泛技術聯合投資管理單元。

隨後，方年在會議上提出了兩個需要同步解決的大事情：

第一件事情，牽頭多方擇址即刻建設一個高於一萬平的超級無塵工作室；

第二件事，各單位分出一部分人員，共同進行EUV光刻機初代原型研究。

第一件事大家求之不得。

第二件事職責所在。

至少今天與會的各個單位都承接了部分02專項的課題。

而02專項的全稱是極大規模積體電路製造技術及成套工藝：

原本要求在11·5期間實現90納米制造裝備產品化，現在都12·5了，產品化沒做到，只有實驗機；

最高要求需要開展14nm及更精密工藝前瞻性研究。

毫無疑問，這必然是需要進行EUV光刻機研發領域。

額外的，02專項還要求在12·5期間進行45~22奈米關鍵製造裝備攻關。

之前沒能按照要求完成90納米制造裝備產品化，現在已經進入了12·5半年多了，眼瞅著本來上個五年該實現的目標能在這個五年完成都得燒高香。

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