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一九六一年，GCA是第一家制造商業步進和重複掩模減少裝置的公司；七五年，推出了首個用於抗蝕劑加工的晶圓軌道；七八年，推出DSW4800、第一個成功的晶圓光刻機；八五年研發出第一臺為貝爾實驗室開發的DUV步進投影式光刻機。

技術實力雄厚。

八八年，GeneralSignal以七千六百萬美元收購了陷入財務困境的GCA，隨後，Sematech資助GCA開發KrF光刻機。

前世因為美國人不準ASML生產的EUV光刻機賣給國內，討論光刻機文章經常出現在網路上，愛國的知識分子義憤填膺，知識無國界只是一句謊言。

光刻機的技術迭代歷程分為五代，第一代為g-line，波長436nm接近式光刻機、晶片製程800-250nm；第二代為i-line，波長365nm接近式光刻機、晶片製程800-250nm；第三代為KrF，波長248掃描投影式光刻機、晶片製程180-130nm；第四代為ArF，波長193nm浸入步進式或步進投影式光刻機，浸入步進式的晶片製程45-7nm，步進投影式的晶片製程130-65nm；第五代為EUV，波長為13.5nm，極紫外式晶片製程7-3nm。

九零年，剛進入光刻機裝置領域不久的SVG，大股東矽谷集團曾試圖以七千萬美元的價格收購陷入虧損的GCA，但交易未成，然而，SVG卻成功地以二千萬美元收購了P＆E的光刻業務，獲得了P＆E與IBM聯合開發的下一代步進掃描系統Mi。

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